原子層沉積系統是在加熱的襯底上連續引入至少兩個蒸汽前驅體源，當表面飽和時，化學吸附自動終止。合適的工藝溫度會阻礙分子在表面的物理吸附?；驹訉映练e周期包括四個步驟:脈沖a、清洗a、脈沖B和清洗B..重復沉積循環，直到獲得所需的膜厚度，這是制造納米結構以形成納米器件的工具。

　　原子層沉積系統可以升級為簡單明了地使用等離子體，從而將等離子體和熱集成在同一個緊湊的設備中。開放式樣品裝載，集成等離子體技術。

　　原子層沉積系統的優勢包括:

　　1.原子層沉積系統通過控制反應循環次數，可控制薄膜厚度，從而達到原子層厚度精度的薄膜；

　　2.由于前驅體被化學吸附飽和，保證生成大面積均勻薄膜；

　　3.原子層沉積系統優異的三維共形化學計量膜可作為納米多孔材料的階梯覆蓋和涂層；

　　4.原子層沉積系統可以沉積多組分納米薄層和混合氧化物；

　　5.薄膜生長可以在低溫(室溫至400℃以下)下進行；

　　6.原子層沉積系統可廣泛應用于各種形狀的基材；

　　7.原子層沉積系統生長的金屬氧化物薄膜可用于柵電介質、電致發光顯示絕緣體、電容器電介質和微機電系統器件，生長的金屬氮化物薄膜適用于擴散阻擋層。

　　原子層沉積系統敏感基板

　　遠程等離子體源可以在低溫下工作

　　過程開發和改進的實時監控

　　原子層沉積系統實時監測RTM原位診斷實現單ALD循環高分辨率。優點是確定ALD范圍，減少加工時間和總生產成本。橢偏儀、QCM和質量管理系統的原位診斷也是我們原子層沉積系統優勢。

　　簡單的空腔清潔

　　定期清潔反應室對于穩定且可重復的原子層沉積系統過程至關重要。借助于用于清潔原子層沉積系統的提升裝置，可以容易地打開反應室。

　　一體式手套箱

　　原子層沉積系統設備與各種供應商的手套箱兼容。

　　多腔集成

　　原子層沉積系統可以作為多腔系統的一個模塊。我們的原子層沉積系統可以與蝕刻設備結合用于工業應用?？蛇x的多腔系統還具有盒到盒裝載的特點。

　　原子層沉積系統實現了熱ALD和等離子體增強ALD薄膜多層結構的交替沉積。熱ALD和等離子體增強ALD可以通過同一反應室中的快門來切換。